依電鍍工藝分類(lèi),含鎳電鍍工藝包括:?jiǎn)谓饘匐婂冩嚬に?、鎳基合金電鍍工藝、復合化學(xué)鍍鎳工藝、化學(xué)鍍鎳工藝以及化學(xué)鍍鎳基合金等五類(lèi)。從原理分類(lèi),五種電鍍工藝可分為電鍍與化學(xué)鍍兩類(lèi),兩者的不同之處在于電鍍工藝是陰陽(yáng)離子在溶液中發(fā)生電化學(xué)反應,使鍍層金屬沉積在鍍件表面;而化學(xué)鍍則是多項化學(xué)反應共同作用,到達公共平衡點(diǎn)之后產(chǎn)生較穩定的化學(xué)沉積。
含鎳廢水由于不同工藝在原理上的本質(zhì)區別可分為電鍍含鎳廢水與化學(xué)鍍鎳含鎳廢水,兩者的處理工藝決定了廢水的不同屬性,電鍍鎳鍍液成分簡(jiǎn)單,依據鎳離子在堿性溶液中形成沉淀的原理即可去除;化學(xué)鍍鎳鍍液則十分復雜,包括主鹽、還原劑、緩沖劑、絡(luò )合劑等物質(zhì),其中還原劑常采用次亞磷酸鹽,絡(luò )合劑采用檸檬酸、蘋(píng)果酸、酒石酸等,溶液化學(xué)性質(zhì)穩定,無(wú)法通過(guò)堿性沉積分離鎳離子實(shí)現達標。
含鎳廢水處理工藝可根據鍍液特性制定處理方案,電鍍工藝中產(chǎn)生的廢水直接調節pH使鎳離子形成沉淀過(guò)濾去除,化學(xué)鍍工藝中產(chǎn)生的廢水在處理時(shí)有兩種思路,一是打破鍍液化學(xué)平衡,破除絡(luò )合劑對鎳離子的絡(luò )合作用,再通過(guò)調節pH使鎳離子沉淀后固液分離去除;二是利用吸附力更強的HMC-M2從絡(luò )合劑中奪取鎳離子形成不溶性沉淀,進(jìn)而沉降去除。HMC-M2是絡(luò )合鎳廢水處理技術(shù)的核心,采用非穩態(tài)螯合原理,可以破壞絡(luò )合劑與鎳離子之間的穩態(tài)平衡。
在兩類(lèi)廢水的處理中,尤其要關(guān)注化學(xué)鍍鎳廢水的去除,對于種思路,實(shí)際操作中該類(lèi)溶液的穩態(tài)不易破壞,和鎳離子牢牢結合在一起的檸檬酸、酒石酸等物質(zhì)絡(luò )合力*,因此采用該思路進(jìn)行處理時(shí)往往不能達到理想的結果,第二種則由于操作簡(jiǎn)便、效果穩定等優(yōu)勢,在近年來(lái)應用更為廣泛。
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